Получение слоя оксидов, нитридов, карбидов; Получение покрытий толщиной до 10…15 мкм; Получение многослойных покрытий с высокой адгезионной стойкостью;

Технология позволяет получать тонкие однородные и равномерные слои из различных материалов; Достаточно высокая производительность; Cистемы на основе вакуумно-дугового испарения материалов обеспечивают высокую скорость осаждения;

Широкий выбор состава покрытий; Адгезия покрытия к материалу подложки в 1,5...2 раза выше, чем при магнетронном нанесении покрытия; Технология позволяет получать тонкие однородные и равномерные слои из различных материалов;

Высокая твердость и коррозионная стойкость напыленного слоя; Изделие не требует дополнительной финишной операции после напыления.